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L4 C2611

台灣 步進式曝光機

代碼: L4-1101-003-001 政府分類: 半導體製造業

步進式光刻機,i-line 365nm。NA=0.6、解析度0.35μm、曝光視野22×22mm、自動對焦對準、產能100片/h。

🏭 供應廠商 共 2 家

微影半導體

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阿斯摩科技有限公司

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