台灣 ALD原子層沉積設備 - 台灣產業戰略地圖

L4 C2610

台灣 ALD原子層沉積設備

代碼: L4-1101-001-003 政府分類: 半導體製造業

原子層沉積系統，12吋晶圓。原子級厚度控制、3D結構覆蓋性佳。適合高介電常數材料、阻障層、先進製程節點。

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京鼎精密科技

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天虹科技

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專案代號：SkyNet | 版本：3.0 | 最後更新：2026-01-12